4H pool{1}}isoleeriv SiC vahvel

4H pool{1}}isoleeriv SiC vahvel

Poolisoleerivad SiC substraadid pakuvad suurt takistust ja suurepäraseid termilisi omadusi, muutes need sobivaks GaN heteroepitaksiaalseks kasvuks ja kõrgsageduslike RF-pooljuhtide rakenduste jaoks. Suure jõudlusega SiC substraadina kasutatakse seda laialdaselt HEMT-põhistes seadmetes täiustatud sidesüsteemides, sealhulgas 5G infrastruktuuris. Need pool-sisoleerivad ränikarbiidiplaadid pakuvad ka suurepäraseid optilisi ja materjaliomadusi, toetades optoelektroonika uusi rakendusi ja kantavaid elektroonikaseadmeid, mis pakuvad selliseid potentsiaalseid ARC-substraate nagu näiteks ARC-substraadid. 12-} prillid ja muud täiustatud optilised seadmed.
Share to
Küsi pakkumist
Räägime nüüd
Kirjeldus
Tehnilised parameetrid

 

Toodete tutvustus

 

 

Poolisoleerivad SiC substraadid pakuvad suurt takistust ja suurepäraseid termilisi omadusi, muutes need sobivaks GaN heteroepitaksiaalseks kasvuks ja kõrgsageduslike RF-pooljuhtide rakenduste jaoks. Suure jõudlusega-SiC substraat, kasutatakse seda laialdaselt HEMT{0}}põhiste seadmete jaoks täiustatud sidesüsteemides, sealhulgas 5G infrastruktuuris.

 

Need pool{0}}isoleerivadSiC vahvlidpakuvad ka suurepäraseid optilisi ja materjaliomadusi, toetades uusi rakendusi optoelektroonikas ja kantavas elektroonikas. . 12-tollised SiC substraadid pakuvad potentsiaali järgmise-põlvkonna rakenduste jaoks, nagu AR-prillid ja muud täiustatud optilised seadmed.

 

 

 

Tehnilised andmed

 

 

 

product-1-1

 

6-tolline
Läbimõõt 150,0 mm+0mm/-0,2 mm
Pinna orientatsioon {0001}±0,2 kraadi
Esmane tasapinnaline orientatsioon /
Sekundaarne tasapinnaline orientatsioon /
Esmane tasapinnaline pikkus Sälk
Sekundaarne tasane pikkus Mitte ühtegi
Sälgu orientatsioon <1100>±1,0 kraadi
Sälgu sügavus Puudub1mm{1}}mm/-0mm servast
Sälgu nurk 90 kraadi +5 kraadi /-1 kraadi
Paksus 500,0 um ± 25,0 um
Tüüp Pool{0}}isoleeriv

 

 

 

 

 

8-tolline
Läbimõõt 200,0 mm+0mm/-0,5 mm
Pinna orientatsioon {0001}±0,2 kraadi
Esmane tasapinnaline orientatsioon /
Sekundaarne tasapinnaline orientatsioon /
Esmane tasapinnaline pikkus Sälk
Sekundaarne tasane pikkus Mitte ühtegi
Sälgu orientatsioon <1100>±1,0 kraadi
Sälgu sügavus Puudub1mm{1}}mm/-0mm servast
Sälgu nurk 90 kraadi +5 kraadi /-1 kraadi
Paksus 500,0 um ± 25,0 um
Tüüp Pool{0}}isoleeriv

 

 

product-1-1

 

 

 

product-1-1
12-tolline
Läbimõõt 300,0 mm+0mm/-0,5 mm
Pinna orientatsioon {0001}±0,5 kraadi
Esmane tasapinnaline orientatsioon /
Sekundaarne tasapinnaline orientatsioon /
Esmane tasapinnaline pikkus Sälk
Sekundaarne tasane pikkus Mitte ühtegi
Sälgu orientatsioon <1100>±5,0 kraadi
Sälgu sügavus Puudub1mm{1}}mm/-0mm servast
Sälgu nurk 90 kraadi +5 kraadi /-1 kraadi
Paksus 750,0 um ± 25,0 um
Tüüp Pool{0}}isoleeriv

 

 

tunnistus

 

 

 

1







 

Kuum tags: 4H Semi{1}}Isolating SiC vahvel, Hiina, tarnijad, tootjad, tehas, valmistatud Hiinas

Küsi pakkumist
Küsi pakkumist